隨著國家二孩、三孩政策的開放，對出生缺陷的防控、檢測越來越重要。胎兒側(cè)腦室增寬，新生兒側(cè)腦室增寬是如何測量定義的？還在迷茫的你，不要著急，你看完這個介紹就會明白了！

什么是側(cè)腦室？

側(cè)腦室位于大腦半球的深部，左、右各一，呈“C”形室腔，內(nèi)襯室管膜，腔內(nèi)充滿腦脊液。兩側(cè)腦室借正中矢狀界板分開，是大腦半球之中的空腔，內(nèi)有脈絡(luò)叢和腦脊液。

側(cè)腦室在胎兒期及新生兒期的超聲測量有什么不同？

胎兒期側(cè)腦室測量是經(jīng)過側(cè)腦室水平橫切面進行測量。測量位置為側(cè)腦室體部及后角水平包括脈絡(luò)叢，選擇的是側(cè)腦室最寬的位置。此切面?zhèn)饶X室大小穩(wěn)定，從15W到分娩，側(cè)腦室平均大小約7.0-8.2mm，在妊娠期的任何時候，側(cè)腦室超過均值的4倍標(biāo)準(zhǔn)差，即10mm，就是增寬。側(cè)腦室的測量是以遠(yuǎn)場為準(zhǔn)，因為受頭顱骨骼聲影的影響，近場腦結(jié)構(gòu)顯示不如遠(yuǎn)場清晰。根據(jù)側(cè)腦室增寬的程度分為：輕度：10mm≤側(cè)腦室寬度＜12mm，中度：12≤側(cè)腦室寬度＜15mm，重度：側(cè)腦室寬度≥15mm。胎兒的冠狀切面及矢狀切面由于胎兒位置關(guān)系常較難顯示。

新生兒期側(cè)腦室測量是經(jīng)前囟，旁矢狀切面測量。測量位置為丘腦尾狀核溝處，也就是側(cè)腦室體部縱徑。側(cè)腦室體部縱徑＞5mm為增大。這個切面還可以測量側(cè)腦室后角比值，側(cè)腦室后角比值是指側(cè)腦室斜徑長度與其延長線加斜徑的總長度之比，≧0.5為增寬。

以上介紹的是最基本的側(cè)腦室測量切面，當(dāng)發(fā)現(xiàn)側(cè)腦室增寬時，醫(yī)生會多切面多角度，尋找可能的原因。

側(cè)腦室增寬了我該怎么辦？

超聲發(fā)現(xiàn)輕度側(cè)腦室增寬，需進行系統(tǒng)超聲檢查，排查胎兒的結(jié)構(gòu)畸形（包括神經(jīng)系統(tǒng)及其他器官系統(tǒng)的發(fā)育情況）以及是否存在其他軟指標(biāo)異常。合并其他異常的輕度側(cè)腦室增寬，建議行介入性產(chǎn)前診斷，必要時可加做染色體檢查、宮內(nèi)感染篩查及胎兒顱腦MRI檢查排查胎兒中樞神經(jīng)系統(tǒng)異常的可能。不合并其他異常的建議定期產(chǎn)前檢查并隨訪超聲，動態(tài)觀察側(cè)腦室寬度的變化。必要時行介入性產(chǎn)前診斷及胎兒顱腦MRI檢查。如果側(cè)腦室寬度在宮內(nèi)呈現(xiàn)進行性增加的趨勢，請聽產(chǎn)科及優(yōu)生優(yōu)育醫(yī)生建議，可能需要多學(xué)科會診，評估胎兒預(yù)后。綜上，側(cè)腦室增寬是胎兒異常的軟指標(biāo)，有胎兒異常的可能，但是發(fā)生率不是很高，請聽從醫(yī)生的建議，根據(jù)需要進行系統(tǒng)的檢查及復(fù)查將有助于預(yù)后判斷。